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ALD20 提供了客户对世伟洛克超高纯 ALD 阀所期望的可靠性和性能，同时还带来了先前无法实现的温度稳定性和流量可能性。这款阀门使制造商能够试验不同的工艺和低蒸汽压化学品，以实现当今和未来开发先进技术所需的均匀气体沉积。

新型 ALD20 超高纯阀专为突破原子层沉积阀技术的极限而设计，从而使流量达到使用现有 ALD 阀所能达到的两到三倍。该阀门使半导体芯片制造商不仅具有增加产量和提高效率的潜力，而且还可以在不显著改变工艺的情况下做到这一点。

• ALD20 可以在与现有 ALD 阀相同的占用空间 (1.5 in.) 中提供 1.2 Cv&苍产蝉辫;的流量，从而无需改装现有设备即可实现更高的性能

• 第二款标准 ALD20 阀类型具有稍大的占用空间宽度 (1.75 in.)，可产生更高的 1.7 流量系数 — 这也是超高循环寿命超高纯阀目前所能提供的最高流量

• 还可提供定制的流量系数

ALD20 的设计能够在超高循环寿命中促进一致的操作性能得益于以下几项主要特点：

• 整个阀门和执行机构均可浸入 50°F (10°C) 至 392°F (200°C) 的气箱中，从而无需在加热期间隔离执行机构。因此，低蒸汽压气体保持在有利于理想流量的温度下，沉积一致性得以改善

• 316L VIM-VAR 不锈钢或合金 22 阀体材料选项具有增强的耐腐蚀性，可承受腐蚀性日趋严重的介质

• 拥有 5 μin. Ra&苍产蝉辫;表面处理的高度抛光型波纹管支持在超高循环寿命的工艺中进行清洁操作，以实现工艺完整性

• 气动执行机构可实现高速 (<10 ms) 且可重复的启动，以实现精确而一致的流量，从而满足计量要求。

规格