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新型 ALD20 超高纯阀专为突破原子层沉积阀技术的极限而设计，从而使流量达到使用现有 ALD 阀所能达到的两到三倍。该阀门使半导体芯片制造商不仅具有增加产量和提高效率的潜力，而且还可以在不显著改变工艺的情况下做到这一点。 ALD20 可以在与现有 ALD 阀相同的占用空间 (1.5 in.) 中提供 1.2 Cv 的流量，从而无需改装现有设备即可实现更高的性能 第二款标准 ALD20 阀类型具

世伟洛克 超高纯隔膜阀（ALD7 系列） 世伟洛克 ALD7 超高纯阀提供了在新的或已有的半导体制造设备中，帮助尽可能地提高芯片产量所必需的流量一致性和流通能力、执行机构速度、温度等级和洁净度。

我们的高性能 ALD 阀是世伟洛克长期以来在半导体制造业中显示出迅速积极的技术领导力的一个重要例子。ALD 阀技术问世以来，世伟洛克与半导体行业的客户密切合作，了解他们的需求，然后打造出 ALD 阀，提供必要的、高水平的精度、一致性、清洁度和高循环寿命，以跟上市场的快速创新步伐。